FirmaNetApp wprowadziła do sprzedaży nowe pamięci masowe klasy enterprise — FAS/V6220, FAS6250 i FAS6290 — aby spełnić wymagania przedsiębiorstw w zakresie wydajności i pojemności storage’u. Nowe macierze pozwalają działom IT na uzyskanie wyższego zwrotu z inwestycji, a jednocześnie oferują wysoką dostępność i możliwości skalowania nawet w przypadku najbardziej wymagających obciążeń roboczych. Platforma FAS6200 i powiązane produkty z serii V, zoptymalizowane pod kątem rozwiązań flash firmy NetApp, pomagają pogodzić cele działów IT z założeniami biznesowymi.

FAS6200

Najważniejsze informacje o nowych produktach:

  • Zaktualizowana seria FAS/V6200 to sprawdzona platforma do hostingu krytycznych aplikacji biznesowych.
  • NetApp zwiększa wydajność swoich rozwiązań korporacyjnych w środowiskach SAN i NAS.
  • Wszystkie modele obsługują rozwiązania flash, które zwiększają liczbę operacji wejścia-wyjścia na sekundę (IOPS) o ponad 80 proc. i zmniejszają opóźnienia nawet o 90 proc.
  • Platformy FAS i seria V są zaprojektowane pod kątem dostępności rzędu 99,999% lub większej i wykorzystują klastry Data ONTAP® do nieprzerwanego działania nawet podczas aktualizacji.
  • Nowe korporacyjne systemy pamięciowe pozwalają firmom łatwo i szybko reagować na zmieniające się potrzeby i umożliwiają skalowanie pojemności do ponad 65 PB.

”Przedsiębiorstwa potrzebują rozwiązań do zarządzania danymi, które cechują się skalowalnością pozwalającą na osiągnięcie krótkoterminowych korzyści i podtrzymanie długofalowego rozwoju — powiedział Krzysztof Celmer, Country Manager, NetApp Poland. — Platformy pamięciowe FAS i zintegrowane produkty flash firmy NetApp zaprojektowano pod kątem krytycznych środowisk SAN i NAS, aby zapewnić elastyczną skalowalność, nieprzerwane działanie oraz łatwość zarządzania. Systemy te przeznaczone są do użytku w środowiskach wirtualnych i chmurowych, co pozwala administratorom na podjęcie odpowiednich decyzji infrastrukturalnych, zarówno w przypadku systemów zainstalowanych lokalnie, jak i działających w chmurze”.

Dodaj komentarz

Twój adres e-mail nie zostanie opublikowany. Wymagane pola są oznaczone *